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En el ámbito de la instrumentación y la medición de precisión, la regla de línea de vidrio óptico se ha convertido en una herramienta revolucionaria que traspasa los límites de la precisión y la confiabilidad. Este innovador dispositivo aprovecha la claridad incomparable y la estabilidad dimensional del vidrio óptico para crear una regla que establece nuevos estándares de linealidad, repetibilidad y durabilidad.

En el ámbito de los sistemas de imágenes ópticas, la evaluación precisa del poder de resolución de un instrumento es primordial. Para satisfacer esta necesidad, la Fuerza Aérea de los Estados Unidos (USAF) ideó una herramienta pionera en 1951 bajo el estándar MIL-STD-150A: la Carta de prueba de resolución de la USAF de 1951. Desde entonces, este dispositivo de prueba de resolución óptica microscópica se ha convertido en un punto de referencia omnipresente para evaluar la claridad y la capacidad de captura de detalles de varios sistemas de imágenes.

En el ámbito de la metrología óptica de precisión, los hologramas generados por computadora (CGH) se han convertido en poderosas herramientas para probar y medir superficies ópticas complejas. Entre ellos, los nulos de cilindros CGH han ganado mucha atención por su capacidad para evaluar con precisión superficies cilíndricas. Este artículo explora los principios, el diseño y las aplicaciones de los cilindros nulos CGH, enfatizando su papel en el avance de las capacidades de prueba óptica.

Los hologramas generados por computadora (CGH) han revolucionado el campo de las pruebas ópticas, particularmente en la medición de superficies asféricas. Entre las diversas técnicas de CGH, los correctores nulos de CGH desempeñan un papel crucial para garantizar una alta precisión y confiabilidad. Este artículo profundiza en los principios, consideraciones de diseño y aplicaciones de los correctores nulos CGH, enfatizando su importancia en las pruebas ópticas de precisión.

Las fotomáscaras, también conocidas simplemente como máscaras, son herramientas vitales en la producción de circuitos integrados (CI) o "chips". Estas placas opacas con áreas transparentes que permiten que la luz brille en un patrón definido desempeñan un papel crucial en el proceso de fotolitografía, que es uno de los pasos clave en la fabricación de semiconductores. En este artículo, exploraremos cómo se utilizan las fotomáscaras en la producción de circuitos integrados.

En el mundo de la fabricación de semiconductores, las fotomáscaras y las retículas desempeñan un papel crucial en la producción de circuitos integrados (CI). Si bien estos términos a menudo se usan indistintamente, en realidad se refieren a componentes distintos con funciones específicas. Comprender la diferencia entre una fotomáscara y una retícula es esencial para cualquier persona involucrada en la industria de la microelectrónica.