Máscara fotográfica de 4 pulgadas

Zhixing tiene una amplia experiencia en la producción de Photomask de 4 pulgadas, tenemos nuestra propia fábrica de procesamiento y producción, el precio es favorable y admitimos la personalización de varios tamaños, al tiempo que garantizamos una alta precisión para cumplir con todos los requisitos de los clientes, bienvenido a consultar , Esperamos con interés trabajar con usted.

La fotomáscara de 4 pulgadas es un dispositivo muy importante en la industria óptica, que se utiliza principalmente en el proceso de fabricación y producción de dispositivos ópticos. El rango de aplicación de la versión de máscara es muy amplio y cubre muchos campos como la electrónica, los semiconductores, la óptica y la química. La tecnología Photomask de 4 pulgadas permite la producción de plantillas de alta calidad y precisión de fabricación a nivel de micras, lo que proporciona un apoyo importante para el desarrollo de la industria óptica.

En el campo de la electrónica, la versión de máscara se utiliza principalmente para producir diversos componentes microelectrónicos en productos electrónicos, como transistores, circuitos integrados, chips LED, etc. A través de la tecnología de placa de máscara, se puede lograr una precisión de fabricación a nivel de micras, lo que hace que el proceso de fabricación de componentes electrónicos sea más refinado y eficiente y mejora en gran medida la capacidad de producción y la calidad del producto de la industria electrónica.

En la industria de los semiconductores, la fotomáscara de 4 pulgadas también es un dispositivo indispensable. El chip semiconductor es uno de los componentes básicos de la ciencia y la tecnología modernas, y la placa de máscara es una herramienta de fabricación indispensable en el proceso de producción de chips semiconductores. La fotomáscara de 4 pulgadas puede realizar el procesamiento y crecimiento "local" de chips semiconductores, haciendo que la producción de chips semiconductores sea más eficiente y refinada, y mejorando la capacidad de fabricación y la calidad del producto de la industria de semiconductores.

En la industria óptica, la versión con máscara se utiliza principalmente para fabricar dispositivos ópticos de alta precisión, como paneles solares, películas protectoras ópticas, etc. La tecnología de placa de máscara puede lograr un control preciso de la forma, el tamaño, el grosor y otros parámetros del dispositivo óptico, producir dispositivos ópticos de alta calidad y hacer que la industria óptica se fortalezca cada vez más.

La tecnología de placa de máscara también se utiliza ampliamente en el campo de la química. En la producción química, la placa de máscara puede lograr una fabricación de precisión a nivel de micras, la producción de materiales compuestos de alta calidad, reactivos químicos y productos farmacéuticos y otros productos ha hecho una contribución importante al desarrollo de la industria química.

En resumen, el rango de aplicación de la placa de máscara en la industria óptica es muy amplio y puede lograr una precisión de fabricación a nivel de micras, lo que promueve el desarrollo de alta calidad de la industria óptica. Con el progreso continuo de la ciencia y la tecnología, la tecnología de máscaras también se actualiza y mejora constantemente, proporcionando un espacio de desarrollo más amplio para el desarrollo futuro de la industria óptica.

Característica:

Solo algunos productos se muestran en la tabla, si necesita otros productos,

puedes consultar servicio al cliente

Exhibición física de productos de litografía con fotomáscara de vidrio.

proceso de elaboración:

(1) Dibuje un archivo de diseño de retícula de máscara (formato GDS) que pueda ser reconocido por el dispositivo de generación

2) Utilice una máquina de litografía sin máscara para leer el archivo de diseño, realice una exposición sin contacto (longitud de onda de exposición de 405 nm) en la retícula en blanco con pegamento e ilumine el área del patrón requerido en la retícula para crear el fotorresistente en esta área. (generalmente pegamento positivo) sufre una reacción fotoquímica

3) Después de revelar y fijar, el fotorresistente en el área expuesta se disuelve y se cae, exponiendo la capa de cromo subyacente.

4) Utilice una solución de grabado de cromo para el grabado húmedo, grabe la capa de cromo expuesta para formar un área de transmisión de luz, y la capa de cromo protegida por el fotoprotector no se grabará, formando un área opaca. De esta manera, se forman en la retícula estructuras de patrones planos con diferentes transmitancias de luz.

5) Si es necesario, utilice métodos húmedos o secos para eliminar la capa fotorresistente de la retícula y limpie la retícula.

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